新型PVD 和PECVD 設備支持獨特成膜技術，利于大規(guī)模生產(chǎn)基于金屬氧化物薄
膜晶體管的超高分辨率顯示屏
大尺寸電視，移動設備高分辨率、低功耗顯示屏的開發(fā)進程得以加快

加州圣克拉拉，2013 年 10 月 17 日 – 應用材料公司今天發(fā)布制造大尺寸、超高分辨率 (UHD) 液晶電視屏和 OLED 顯示屏的新技術設備，新技術設備能夠滿足消費者對顯示屏性能、清晰度、色彩和亮度的更高要求。Applied AKT-PiVot® 55K DT PVD、Applied AKT-PiVot 25K DT PVD 和 Applied AKT 55KS PECVD 設備進一步鞏固了應用材料公司在金屬氧化物 (MO) 薄膜技術領域的領導地位，實現(xiàn)制造高分辨率顯示屏所需的更小、更快薄膜晶體管 (TFT)。通過精密材料工程和生產(chǎn)革新，這些 PVD 和 PECVD 設備為未來金屬氧化物薄膜顯示屏的批量生產(chǎn)提供了最優(yōu)化而具成本效益的解決方案。

基于金屬氧化物的薄膜晶體管顯示技術能支持低功耗、高分辨率的智能手機、平板電腦以及OLED 電視。未來的超高清（4K）電視也有望采用金屬氧化物薄膜晶體管顯示技術。應用材料公司 PVD 和 PECVD 設備及工藝所提供的膜質(zhì)均勻性和微粒控制有助于客戶實現(xiàn)這一新型顯示屏技術，為大規(guī)模生產(chǎn)所需的高良品率提供保障。

“我們新型 PVD 和 PECVD 設備使客戶能夠利用已經(jīng)驗證的技術轉向金屬氧化物技術，加快顯示行業(yè)的發(fā)展進程，”應用材料公司高級副總裁、全球服務事業(yè)部與成長市場部總經(jīng)理阿里?沙勒普爾 (Ali Salehpour) 說。“我們與客戶緊密合作開發(fā)這些解決方案來克服其在均勻性、微粒控制和穩(wěn)定性上遇到的關鍵難題，解決運用過程中的主要障礙，尤其是在OLED 產(chǎn)品方面。我們通過將這些解決方案擴展至不同的玻璃基板尺寸，以支持我們客戶的各種產(chǎn)品策略，成就大尺寸電視或移動設備高效能顯示屏生產(chǎn)的多種技術發(fā)展。”

應用材料公司的 AKT-PiVot® DT PVD設備（55K 用于 2200mm x 2500mm 玻璃基板，25K 用于 1500mm x 1850mm 玻璃基板）擴展了該公司專有的旋轉陰極陣列技術，能為金屬氧化物以及金屬連線和像素電極提供高度均勻、同質(zhì)、低瑕疵的成膜。通過 PiVot 形成的、均勻的 IGZO 膜能夠制造出對顯示屏質(zhì)量至關重要的高度穩(wěn)定性的薄膜晶體管，是生產(chǎn)小尺寸和大尺寸 OLED 金屬氧化物背板的關鍵。隨著薄膜晶體管越來越小，玻璃基板尺寸越來越大，均勻性和微粒對良品率的影響也大幅增加。與傳統(tǒng)的平面靶相比，AKT-PiVot® PVD設備具有的旋轉靶自我清潔與等離子搖擺控制機能，實現(xiàn)了產(chǎn)品缺陷率的顯著降低與卓越的膜質(zhì)均勻性。為了有效實現(xiàn)高性價比，獨立的雙軌道設計以較小的占地面積實現(xiàn)了高產(chǎn)能。通過穩(wěn)固、無非均勻的 IGZO 薄膜，與均勻低缺陷率的金屬連線、像素電極以及新的集成式鈍化層 (AlOx)薄膜的結合，實現(xiàn)了前所未有的技術性能和靈活性。

應用材料公司的新型 AKT 55KS PECVD 設備為 2200mm x 2500mm 尺寸的玻璃基板帶來了領先于市場的精密 PECVD 技術。利用其新型優(yōu)質(zhì)的二氧化硅 (SiO2) 工藝，為金屬氧化物晶體管沉積電介質(zhì)界面，最大程度地減少氫氣雜質(zhì)，提高晶體管的長期穩(wěn)定性并優(yōu)化顯示屏性能。通過持續(xù)實現(xiàn)高良品率所需的均勻性和微粒控制，AKT-55KS PECVD 設備為制造優(yōu)質(zhì)金屬氧化物薄膜晶體管顯示屏提供了快速而易于實施的技術方案。

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